當(dāng)前位置:首頁 ? 常見問題 ? 氮化鋁陶瓷基板關(guān)鍵制備工藝的研究
文章出處:常見問題 責(zé)任編輯:陶瓷pcb電路板|深圳市金瑞欣特種電路技術(shù)有限公司 閱讀量:- 發(fā)表時間:2022-03-24
氮化鋁(AlN)陶瓷作為一種導(dǎo)熱率高,熱膨脹系數(shù)與硅半導(dǎo)體接近的材料,具備良好的絕緣和機械性能,在高頻通信、LED照明、新能源汽車、高鐵、風(fēng)能和光伏發(fā)電等新興領(lǐng)域的商業(yè)化應(yīng)用逐漸普及。由于AlN材料制作工藝比較復(fù)雜,生產(chǎn)成本較高,目前大部分國產(chǎn)AlN材料尚達(dá)不到高導(dǎo)熱、高強度的應(yīng)用要求。本文針對適合批量生產(chǎn)AlN陶瓷的常壓燒結(jié)工藝進(jìn)行探討分析,研究不同工藝條件對AlN性能的影響。
本實驗采用自制高純AlN粉體進(jìn)行制備。采用Malvern MS2000型激光粒度儀測量AlN粉體平均粒度(D50)為1.2μm。采用SU8010型掃描電子顯微鏡觀察顆粒形貌,如圖1所示,該粉體顆粒多數(shù)呈球狀,尺寸在0.3μm~1μm。
2,采用BET法測得粉體的比表面積為3.2m2/g。利用X'Pert3 Powder型XRD對AlN粉物相進(jìn)行分析(見圖2),沒有雜峰出現(xiàn),結(jié)合表1中雜質(zhì)元素含量數(shù)據(jù),表明AlN粉體純度高。
以無水乙醇以及丁酮作為介質(zhì),將AlN粉體與燒結(jié)助劑(主要成分為Y2O3)進(jìn)行攪拌混合,并加入一定量的PVB、分散劑以及增塑劑,利用GTM100型球磨機進(jìn)行球磨分散獲得AlN陶瓷漿料,通過流延法形成厚度約0.5mm的AlN生瓷片。先在600℃以下對AlN生瓷片排膠,使生瓷片中絕大部分有機物裂解排出,之后保持升溫速率為10℃/min使溫度達(dá)到1300℃,再將升溫速率保持在5℃/min升至燒結(jié)溫度范圍1700~1850℃并保溫2h,最后冷卻,整個過程均在N2保護(hù)氣氛下進(jìn)行。
使用排水法測量成瓷密度,將AlN成瓷進(jìn)行研磨拋光后,對其表面進(jìn)行噴碳處理,利用SU8010型掃描電子顯微鏡對基板斷面形貌和第二相分布進(jìn)行觀察。
使用自制AlN粉體,添加不同比例的燒結(jié)助劑,加入1.0%的分散劑,以及適量增塑劑及粘合劑混合均勻獲得陶瓷漿料,流延后的生坯在1800℃燒結(jié),對比不同比例的燒結(jié)助劑對成瓷密度及導(dǎo)熱率的影響,結(jié)果見表2。
試驗結(jié)果說明,隨著燒結(jié)助劑含量增加,基板成瓷密度隨之上升,而導(dǎo)熱率在燒結(jié)助劑添加量為1.5%時達(dá)到最高。在AlN燒結(jié)過程中,燒結(jié)助劑能與生坯中的氧化物反應(yīng)形成液相,以降低晶粒生長所需的燒結(jié)驅(qū)動力,從而降低基板的燒結(jié)溫度;對基板斷面進(jìn)行觀察,當(dāng)燒結(jié)助劑添加量較低時(0.5%與1.0%),基板未能完成致密化,導(dǎo)致導(dǎo)熱率較低;當(dāng)燒結(jié)助劑添加量較高時(2.0%與2.5%),基板內(nèi)部液相殘留較多,且分布在晶界中,也會降低導(dǎo)熱率。
對燒結(jié)最高溫度分別為1700℃、1750℃、1800℃、1850℃的成瓷樣品斷面進(jìn)行觀察,成瓷性能結(jié)果如圖4~圖5及表3所示。當(dāng)燒結(jié)溫度為1700℃時,基板內(nèi)部存在較多的空隙,晶粒之間開始相互連接,但結(jié)合比較松散;1750℃時AlN晶粒明顯長大,逐漸形成等軸晶的外形結(jié)構(gòu);1800℃時,AlN晶粒變得更加規(guī)整,內(nèi)部結(jié)構(gòu)更致密;1850℃時,AlN基板內(nèi)部幾乎不存在氣孔,但AlN晶粒也會變得更大,局部甚至?xí)霈F(xiàn)異常長大的晶粒。
由表3可見,隨著燒結(jié)溫度的升高,AlN成瓷密度、晶粒尺寸及導(dǎo)熱率呈不斷上升的趨勢,在1800℃時密度趨于穩(wěn)定,而基板的抗折強度則是先上升,在1750℃時達(dá)到最大值后開始下降。
根據(jù)相關(guān)的研究表明,AlN陶瓷的第二相組成的變化不會對其導(dǎo)熱性能造成影響,但是卻會對其強度造成十分明顯的影響。我們進(jìn)而觀察不同燒結(jié)溫度下AlN成瓷斷面中的第二相分布情況(如圖5),結(jié)合圖3我們不難發(fā)現(xiàn),其分布狀態(tài)除了與燒結(jié)助劑添加量有關(guān)外,還與燒結(jié)溫度有關(guān)。在1750℃時第二相團(tuán)聚較大,溫度升高至1800℃時第二相團(tuán)聚明顯減少,并分散更加均勻,這是由于晶粒在長大過程中,對液相狀態(tài)的第二相形成擠壓,使其重新分布在晶粒間的閉氣孔中。
隨著溫度進(jìn)一步上升至1850℃,第二相在瓷體內(nèi)的分布減少,這是因為溫度升高后,會使閉氣孔減少甚至消失,基板內(nèi)部的第二相受到擠壓向外表面擴(kuò)散,而第二相相當(dāng)于雜質(zhì)存在于AlN晶格間使導(dǎo)熱率降低,因此溫度升高后,AlN的導(dǎo)熱率獲得進(jìn)一步提升。
在AlN燒結(jié)致密后,晶粒越細(xì),晶界面積越大,晶界越曲折,越不利于脆性裂紋的擴(kuò)展,同時晶粒越細(xì),大的缺陷和孔隙更少,因而基板強度越高。但隨著燒結(jié)溫度升高,晶粒尺寸變大,從而引起基板強度降低。
通過選用合適的分散劑添加比例,試驗不同工藝對AlN成瓷性能影響。燒結(jié)助劑的添加可促進(jìn)AlN的燒結(jié)致密化,其主要以第二相的形式,在AlN晶粒間的三叉晶界處分布,并能夠在晶粒間流動,其分布狀態(tài)與燒結(jié)助劑添加量和燒結(jié)溫度有關(guān)。而AlN的導(dǎo)熱率隨著陶瓷致密度提高以及第二相的減少而變大,AlN晶粒的增大會使成瓷強度降低。因此在實際生產(chǎn)過程中,可以通過控制第二相的添加量和燒結(jié)溫度以獲得性能均衡的氮化鋁基板。更多氮化鋁陶瓷基板的問題可以咨詢金瑞欣特種電路。
文章來源:氮化鋁陶瓷基板制備工藝的研究 邱基華
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